全面禁光刻机和先进技术！美国联手荷兰扩大对华芯片出口限制

随着美国政府联手其他国家收紧出口管制政策，中国企业进口光刻机等半导体设备正面临越来越大的困难。

当地时间9月5日，美国商务部下属的工业与安全局（BIS）发布公告，出于“国家安全和外交政策”的考虑，更新量子计算、半导体制造和其他先进技术的管制政策清单，共计133页，这进一步加强了美国对华量子计算、半导体制造等科技出口限制，涉及量子计算机及其相关设备、先进半导体设备必需的工具和设备、GAAFET（3nm及以内芯片制造工艺）技术以及增材制造项目等。

BIS表示，此份文件规则自2024年9月6日起生效。

美国BIS副局长艾伦·埃斯特维兹（Alan Estevez）表示，此次行动确保美国出口管制与快速发展的技术保持同步，也确保了美国与国际伙伴合作时，出口管制更加有效。

随后，荷兰政府也“对齐”美国出口管制政策，实施所有的光刻机出口审批。9月6日，荷兰光刻机龙头ASML（阿斯麦）对钛媒体App展示一份声明中回应：

“荷兰政府于今日发布了有关浸润式 DUV（深紫外）光刻设备出口的最新许可证要求。ASML认为，这项新要求将使出口许可证的发放方式更协调统一。根据更新后的许可证发放要求以及美国《出口管理条例》第734部分的第4.(a).(3)节的规定，ASML将需要向荷兰政府而非美国政府申请 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 型号浸润式DUV光刻系统的出口许可证。之前，荷兰政府已经开始对 TWINSCAN NXT:2000i 及后续推出的浸润式光刻系统实施出口许可证要求。ASML EUV 光刻系统的销售也受到出口许可证要求的限制。荷兰政府公布的最新许可证要求将于 2024 年 9 月 7 日生效。由于这是一项流程性变更，ASML预计该公告不会对我们 2024 年的业绩预期或 2022 年 11 月投资者日上公布的公司长期前景产生重大影响。”

换句话说，未来，如果由美国政府和荷兰政府共同审批的话，ASML的先进EUV（极紫外）、部分DUV光刻机设备都不太可能向中国销售了。

针对上述消息，中国外交部发言人毛宁9月6日表示，中方一贯反对美国将经贸科技问题政治化、武器化。我们认为，对正常的技术合作和经贸往来人为地设置障碍，违反市场经济原则，扰乱全球产供链稳定，不符合任何一方的利益。

9月8日，中国商务部新闻发言人就此表示，中方注意到相关情况。近来，中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对光刻机的管制范围，中方对此表示不满。近年来，美国为维护自身全球霸权，不断泛化国家安全概念，胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施，严重威胁全球半导体产业链供应链稳定，严重损害相关国家和企业正当权益，中方对此坚决反对。荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，尊重市场原则和契约精神，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展，不滥用出口管制措施，切实维护中荷企业和双方共同利益，维护全球半导体产业链供应链稳定。

再加码！美国政府不仅更新管制新规，还让荷兰“对齐”出口限制

原本预期在10月美国BIS更新的 AI 半导体出口管制规定，突然提前一个多月快速落地实施。

9月5日，美国商务部BIS更新出口管制规定，加紧对量子计算和半导体制造设备等关键技术的出口管制。美国商务部表示，该部正在全球范围内对量子计算机和制造先进半导体设备所需的机器等特定类型的产品实施出口限制，但是对日本等采取类似措施的国家例外。

BIS在“商务管制清单”文件中增加和修订了出口管制物项的分类编号 (ECCNs)，对半导体制造设备、量子计算机技术及其相关设备、增材制造设备、GAAFET技术、量子计算特定材料和电子组件、以及软件和特定半导体制造与量子计算设备开发的技术，相关物项均进行全球范围内的出口管制。

根据文件，涉及物项包括2B910（增材制造设备），2D910（增材制造设备的“软件”），3A901（电子组件），3A904（低温冷却系统）、3B001（半导体制造设备），3B903（扫描电子显微镜），3B904（低温晶圆探测设备），3C907、3C908、3C909（特定材料），3D901、3D907（量子计算相关的“软件”），3E901、3E905（量子计算和GAAFET技术的“技术”），4A906（量子计算机及相关组件），4D906（量子计算机相关组件的“软件”）。4E906（量子计算机相关组件的“技术”），这些都会纳入新的BIS审批获准当中。

同时，BIS 还新增了 “国家安全” 和 “地区稳定” 两项全球许可证要求，从美国出口这些物项到全球所有国家都需要向美国申请许可。具体来说，对参加了瓦森纳出口管制协定国家，原则上允许出口，而对美国指定的 “国家安全” 相关国家或 “武器禁运国家”，例如中国，则是假定拒绝出口，对于其他国家，则是一事一议的原则。

进一步，BIS 为 “志同道合” 的国家提供了豁免，即 “许可证豁免的出口管制”(IEC) 机制，各国如果实施和美国等效的出口管制，满足了 IEC 的要求，那么美国将豁免对这些国家的出口许可要求。目前，意大利、英国、澳大利亚、加拿大、日本、西班牙、法国和德国等8个国家的20个物项将有特别的许可豁免权。

值得注意的是BIS文件中提到关于GAAFET（全环栅晶体管）部分，这将影响国内 GPU/AI 芯片研发和量产。

事实上，GAAFET是一种先进半导体制造技术，用于制造更小、更高效的晶体管，目前大体可以制造4nm、3nm、2nm以及1nm芯片产品。当前涉及此技术的上中游产业链主要包括全球两大晶圆代工龙头（三星、台积电），三大EDA龙头（Synopsys新思科技、Cadence楷登科技、以及西门子EDA），这些公司均掌握此技术，而苹果、英伟达等企业都正在量产基于GAAFET的芯片。而文件中指出，BIS正在对涉及GAAFET技术的某些项目实施出口控制，以保护国家安全和外交政策利益。

不仅更新了管制新规，同一时间，美国政府还让荷兰“对齐”出口限制。

9月6日，荷兰政府发布有关浸润式 DUV光刻设备出口的最新许可证要求，主要涉及荷兰光刻机龙头ASML的产品，预计该限令将于9月7日生效。

对此，荷兰贸易部长雷内特·克莱弗（Reinette Klever)表示：“这一决定是为了我们的安全。我们认为，由于技术的进步，这些特定生产设备的出口存在更多的安全风险，尤其是在当前地缘政治环境的背景之下。”

此前，荷兰首相肖夫（Dick Schoof）表示，荷兰政府在决定进一步收紧ASML设备对华出口规则时，将考虑到该公司的经济利益。

“我们正在进行谈判，良好的谈判，我们也在特别关注ASML的经济利益，这些利益需要与其他风险进行权衡，而经济利益是极其重要的”。肖夫补充说，“对荷兰来说，ASML是一个极其重要的创新企业，在任何情况下都不应受到影响，因为这将损害ASML的全球地位”。

知情人士称，肖夫领导的荷兰政府很可能不会在ASML某些在华维修和提供备件的许可证于2024年底到期后为其续期，预计将涉及ASML的顶级DUV（深紫外）光刻机。对此肖夫不予置评。

实际上，在美国的压力下，荷兰政府从未允许ASML向中国客户出口其最先进的EUV设备，并从2023年9月开始要求NXT:2000系列及更好的DUV设备需要出口许可。2023年10月，美国单方面开始限制ASML 1970i和1980i工具的出货。

ASML已警告中国客户，从2024年起不预期再交付这些设备。

据财新，金杜律师事务所合规业务部贸易法合伙人戴梦皓表示，美国新增的这批全球管制物项在之前几轮对中国的管制中已经基本覆盖到了，因此本次美国的新政策对中国产业的新影响不大。但是，这样的新规利于美国未来进一步收紧出口管制，对日本和荷兰等半导体材料和设备生产国施加更大压力。

总结看，此次BIS文件主要涉及量子计算的全产业链体系，也就是美国政府希望全面限制中国发展量子计算技术，同时，通过与荷兰、日本“对齐”出口管制方式，美国芯片产业链全面断绝中国获取海外先进制程芯片所需的设备、材料等。

一位EDA行业人士向钛媒体App透露，目前EDA三巨头已经限制国内设计企业的GAAFET IP和EDA软件采购，因此，此轮管制对于国内EDA方面影响有限，但长期来看，中国企业很难再拥有研发先进制程芯片的EDA软件。

“我们本来就对放宽半导体出口没什么期待了。”上述人士称。

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